上海微电子22nm光刻机研制成功,网友:终于等到了

时间:2020-07-13 13:32:26 来源: 曈临娱乐


我国现在对于半导体的需求已经超过了全球近三分之一,正是因为我们的需求量大,而又需要面对美国对我们的技术封锁,我国最大的困境就是不能拥有独立自主知识产权的芯片技术,很多方面都是需要进口的。如今,国产光刻机研发成功,网友:终于等到了!

据报道,上海微电子技术有限公司研发的22nm光刻机再次取得突破,成功打破西方技术垄断。公司采用紫外光源成功实现了22nm工艺,使国内光刻技术进步了一大步。如果光刻技术稳定,能够实现大规模量产,将有利于国内芯片制造业的发展。

这是一个很重要的科技进步,并且在技术上我们已经超越了日本,成为了位居荷兰之后的全球第二位,其实荷兰的光刻机其中有不少都是美国的专利,所以他想遏制住我们是很简单的,但是我们有了自己的光刻机那就会扭转局势。

22nm光刻机研制的成功也让我们看到了我国光刻机发展的新突破,特别是对于未来中国芯片市场的发展,这无疑是至关重要的一环。不过,中国在半导体领域取得了新突破。但是,从国际市场形势的变化来看,国内光刻机的研发还有很长的路要走。


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